國産ArF光刻膠已有3家企業實現實質(zhì)性的技術突破

勢銀(TrendBank)研究統計分析(xī)，2021年國内半導體光(guāng)刻膠市(shì)場規模将達到29億人(rén)民币。

 

 

國内半導體光刻膠(jiāo)布局及生(shēng)産企(qǐ)業總計約有14家，真正(zhèng)實現了批量供應的企業不足(zú)7家，且主要集中在紫外負膠(jiāo)/正膠(jiāo)、i/g線光刻(kè)膠，如：北京科華、蘇州瑞紅(hóng)、濰坊星泰(tài)克、艾森半導體、江蘇漢拓(tuò)等。而高端的KrF光刻膠國産化率不足1%，能夠實現産品供應的有：北京科華、福建泓光半導體、江(jiāng)蘇漢拓、上海新陽等。在技術附(fù)加值更高的ArF光刻膠産品上，目前國内(nèi)還未能真正(zhèng)實現規模化量産訂單供應，就數(shù)甯波南大光電、博康旗下漢拓光學以及廣州微納光刻(kè)材料在ArF光刻膠産品上有實質性(xìng)的(de)技術突破。

 

來源：勢銀(TrendBank) 

 

窺(kuī)探中國大陸規模最大的晶圓代工(gōng)廠中芯國際各技術(shù)節點營收結構，在2020年年底被美國打壓，四(sì)季度45nm以下制程營(yíng)收發生嚴重壓縮，但在今年上半年公司整體(tǐ)運營開始逐步轉好，營收增(zēng)長了(le)33%，28nm/14nm的先進制程占比更是顯著提(tí)升，這也推動了(le)上遊先進光刻膠的(de)需求，尤其是ArF光刻膠的國産替代。 

 

來源：SMIC

 

目前國内芯片制造企(qǐ)業消耗的(de)ArF光(guāng)刻膠(jiāo)基本(běn)是采購國外供應商，例如：JSR、TOK、信越化學等(děng)。我國本土光刻膠企業在ArF光刻(kè)膠産品上還是和國際老(lǎo)牌供應商之間存在很大的光刻性(xìng)能差距，如(rú)：折射率、光敏度、分辨率、線邊緣粗糙度等等參數。經勢銀(TrendBank)調研(yán)統計，我國正在真正(zhèng)逐步推進ArF光刻膠項目且有技術(shù)實力的廠商僅有(yǒu)如(rú)下6家，推測這幾家(jiā)也将(jiāng)是未來2-3年(nián)内逐一打入本土芯片制造商供應(yīng)鏈的最有利競争者：

 

 

甯(níng)波南大光電

公司是ArF光(guāng)刻膠産品開發與産業(yè)化項目的實施主體單(dān)位(wèi)，目前ArF幹(gàn)式光(guāng)刻膠已通過50nm閃(shǎn)存平台認證和55nm邏輯(jí)電路平台(tái)認證。公司正在大力推進ArF光刻膠（ArF幹式分辨(biàn)率90-45nm，濕式分辨率65-14nm）産(chǎn)能建設，規劃年(nián)産能達到25噸（幹(gàn)式5噸和浸沒式20噸(dūn)）。

 

上海新陽

公(gōng)司是KrF厚膜膠與ArF光刻膠開發與(yǔ)産業化項目的實施(shī)主體單位，已擁有兩台ArF光刻機(jī)，可分别用(yòng)于幹法和濕法光刻膠開發。目(mù)前KrF厚膜膠（分辨率≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已通過(guò)下遊客戶驗證，可應用于3D存儲器件(jiàn)工藝/PAD/Implant，預計2021年年底(dǐ)會有訂單批量供應出貨。其ArF光刻膠尚處于客戶認證當中，可應用于先進邏輯節點的Line/Contact/Hole/Trench，按(àn)進(jìn)度預計(jì)在2021年年底會取得(dé)實質性(xìng)的突破進展。

 

 

北京科華

公(gōng)司是國内本土KrF光刻膠主力供應商，目前已經打入國内多家芯片制造廠供應鏈(liàn)（如長江存儲、中芯國際、廣州粵芯、華虹半導體），2021年上半(bàn)年KrF光刻(kè)膠同比增長94.51%，産品可應用于(yú)Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工藝，其ArF光刻膠(jiāo)項目(mù)正在按計劃推進。

 

晶瑞股份

公(gōng)司是老牌半導體光刻膠供應(yīng)商之一，現已擁有一(yī)台ArF幹式光刻機。其KrF光刻膠樣品正在下遊客戶驗證，分辨(biàn)率可達0.15-0.25μm，可應用于Hole/Line/Space等層工藝，其ArF幹式(shì)光刻膠正處在開(kāi)發階段，分辨率可(kě)達90-65nm。

 

江蘇漢拓

公(gōng)司是徐州博康集團(tuán)控股子(zǐ)公(gōng)司，具備(bèi)徐州博康成熟(shú)的KrF、ArF光刻膠單體開發技術背景，目前已開發KrF正膠和負膠産品，以負膠（分辨(biàn)率0.25μm，膜厚0.6μm）和厚膜膠（分辨率1μm，膜厚(hòu)3-5μm）爲重點，可應用于Lift-off工藝、厚鋁刻蝕、PAD工藝；ArF系(xì)列光刻膠正在以與客(kè)戶合作開發(fā)模式推進，開發的ArF光(guāng)刻膠樣品分别達到(dào)了N90、N65、N55的應用需求，已有一款ArF光刻膠産品小批量供應某存儲芯(xīn)片制造商，全系列産(chǎn)品還需進一步在客戶端評估驗證。

 

廣州微納光刻材料

公司(sī)專注開發ArF光刻膠，目(mù)前主要開(kāi)發了90nm和55nm節點的ArF光刻膠樣品，90nm節點的(de)光(guāng)刻膠有很好(hǎo)的(de)線寬粗糙度，55nm節點的高寬比可達3.2:1，同複旦大學微電子(zǐ)學院鄧海教授課(kè)題組有(yǒu)深度(dù)合作，其以OEM形式(shì)進行代工(gōng)生産，和廣東/嘉(jiā)興兩家化工生産企業簽訂了代工(gōng)協議。
 

勢(shì)銀(TrendBank)2021年推出最新年度報告《2021年光刻膠産業市場分析報(bào)告》，本市場(chǎng)研究(jiū)報告側重于國(guó)内半導體/顯示(shì)光刻膠市場/供應(yīng)鏈，報告具體目錄如下：

 

第1章(zhāng) 光刻膠概念及其行業發(fā)展概(gài)述

1.1 光刻膠概念深度剖析

    1.1.1 光刻膠應用場景分析(xī)

    1.1.2 光刻膠的産品及應用屬性分析

    1.1.3 先進光刻材料熱點(diǎn)剖析

1.2 中國光刻膠行(háng)業發展現狀

    1.2.1 國(guó)内光刻膠整體市場及(jí)國(guó)産化(huà)情況(kuàng)

    1.2.2 國内光刻膠産業鏈瓶頸剖析

    1.2.3 國内(nèi)各地利好政策及項目布局剖析

 

第(dì)2章 中(zhōng)國光刻膠專(zhuān)用化學品行業競争環(huán)境分析

2.1 全球(qiú)光刻膠專用化學品主要企業格局現狀

    2.1.1 上遊主要企業所屬地分布(bù)情況

    2.1.2 主要企業化學品經營範疇

2.2 國内光刻膠專用化學(xué)品市場分析

2.3 國内(nèi)光刻膠專用化學品主要(yào)企業剖析

    2.3.1 強力新材

    2.3.2 聖(shèng)泉集團

    2.3.3 徐州博康

 

第3章 中國光刻膠行業(yè)競争環境分析

3.1 國(guó)内(nèi)光(guāng)刻(kè)膠企業地(dì)域分布深度剖(pōu)析(xī)

3.2 國内光(guāng)刻膠企業的産品/産能情況統計

3.3 國内光(guāng)刻膠市場深度剖析

    3.3.1 國内半導體及顯(xiǎn)示光刻膠市場格局分析

    3.3.2 國内半導體(tǐ)及顯示光刻膠市場規模(mó)分析

3.4 國(guó)内光刻膠産業配套檢測設備剖析(xī)

    3.4.1 配套檢測設備資(zī)金投入占比剖析

    3.4.2 光刻膠關鍵設備國産化分析

 

第4章 全(quán)球光刻膠(jiāo)行業主(zhǔ)要企業發展情況(kuàng)分析

4.1 國外光刻(kè)膠産業主要企業經營情況分析

    4.1.1 德國默克

    4.1.2 日(rì)本TOK

    4.1.3 日本JSR

    4.1.4 美國陶氏化學

4.2 重點企業發展情況剖(pōu)析

    4.2.1 南大光電

    4.2.2 晶瑞股份

    4.2.3 彤程新材

    4.2.4 上海新陽

    4.2.5 雅克科技

 

第5章 中國光刻膠(jiāo)專利及光刻技術分析

5.1 國内主要企業專利申請情況剖析

5.2 國内光刻膠專利(lì)深度剖析

    5.2.1 國内光刻膠專(zhuān)利(lì)結(jié)構分析

    5.2.2 國内外專利趨勢對比分析

5.3 先進光刻技術路線對比分析

 

第6章(zhāng) 中國光刻(kè)膠下遊需(xū)求市場情況分析

6.1 下遊應用結構(gòu)剖析

6.2 終端市場格(gé)局分(fèn)析

 

第7章中國(guó)光刻(kè)膠産業市場(chǎng)發展趨勢預測(cè)（2021-2025）

 

第8章中國光刻膠産(chǎn)業投資機會及風險分析

8.1 産業投資機會

8.2 投資風險分析

 

轉載自：勢銀膜鏈微信公衆号。