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光(guāng)刻膠 | 半導體高壁(bì)壘核(hé)心材料

導(dǎo)言：光(guāng)刻膠目前(qián)廣泛(fàn)用(yòng)于光電(diàn)信息産(chǎn)業(yè)的微(wēi)細圖形線路加(jiā)工制(zhì)作，光刻工藝的成本約占(zhàn)整個芯(xīn)片制造(zào)工藝的35%，耗(hào)時(shí)占(zhàn)整個芯片工藝的40%到(dào)60%，是半導體(tǐ)制造(zào)中的核心(xīn)工藝。光刻膠材(cái)料約(yuē)占芯片制(zhì)造材料總(zǒng)成本的4%，是(shì)半(bàn)導體集(jí)成電路制(zhì)造的(de)核心(xīn)材料。   中國(guó)光刻膠市(shì)場增(zēng)速高(gāo)于國(guó)際水(shuǐ)平，據前瞻(zhān)産業研究院數據，2019年(nián)我(wǒ)國光刻膠本(běn)土供應量約70億(yì)元，自2010年起(qǐ)複合(hé)增速(sù)達11%，遠高于(yú)全球(qiú)增速(sù)，但本(běn)土(tǔ)供(gòng)應量在全(quán)球占比僅(jǐn)10%左右(yòu)，且以(yǐ)已經(jīng)實現國産替代的主要是(shì)中低端pcb光(guāng)刻膠，lcd和半導體(tǐ)領域的光刻(kè)膠(jiāo)自給率極(jí)低。   光(guāng)刻膠是(shì)圖(tú)形轉(zhuǎn)移介(jiè)質，其利用光照(zhào)反應(yīng)後溶(róng)解度不同将掩(yǎn)膜版圖形(xíng)轉移(yí)至襯底(dǐ)上，主要(yào)由感(gǎn)光劑(光引(yǐn)發劑)、聚合(hé)劑(感(gǎn)光樹(shù)脂)、溶劑與(yǔ)助劑(jì)構成(chéng)。   光刻膠原材(cái)料主要(yào)爲樹脂、溶劑和(hé)其他(tā)添(tiān)加劑。其(qí)中溶(róng)劑質量占(zhàn)比最大，一般在(zài)80%以上。其他(tā)添加劑質(zhì)量占比雖不足5%，卻是決定(dìng)光刻膠(jiāo)特有性(xìng)質的關(guān)鍵(jiàn)材料(liào)，包括光(guāng)敏(mǐn)劑、表面活(huó)性劑(jì)等材(cái)料。   在光刻工藝(yì)中，光(guāng)刻膠被(bèi)均勻塗布在矽片、玻璃和(hé)金(jīn)屬等(děng)不同的襯底上(shàng)，經曝(pù)光(guāng)、顯(xiǎn)影和(hé)蝕刻等工序(xù)将(jiāng)掩膜版(bǎn)上的圖形轉(zhuǎn)移(yí)到薄膜(mó)上，形(xíng)成(chéng)與掩膜(mó)版完全(quán)對應的(de)幾何圖形。   光刻(kè)膠可(kě)根(gēn)據其下(xià)遊應用領域分爲半導體光刻(kè)膠、面闆光刻膠(jiāo)和pcb光刻膠三類。   半導體光(guāng)刻膠(jiāo) 目前，krf/arf仍是主流(liú)的加工材(cái)料。光刻技(jì)術随着集(jí)成電路的發(fā)展(zhǎn)經曆了從g線（436nm）光(guāng)刻，h線（405nm）光(guāng)刻，i線（365nm）光刻，到(dào)深(shēn)紫(zǐ)外線(xiàn)duv光(guāng)刻（krf248nm和arf193nm）、193nm浸沒式(shì)加多(duō)重成像技(jì)術（32nm-7nm），在到極端紫(zǐ)外線（euv，＜13.5nm）光(guāng)刻的發(fā)展，甚至采用非光(guāng)學(xué)光刻（電子(zǐ)束曝光、離子(zǐ)束(shù)曝光），以相應波長爲感光波長(zhǎng)的各類(lèi)光刻膠也應用而(ér)生。 光刻膠(jiāo)市場行業集中度高。日本(běn)企業(yè)在半導體(tǐ)光刻膠領域占(zhàn)據絕對優(yōu)勢。半(bàn)導體光刻(kè)膠(jiāo)主(zhǔ)要生(shēng)産企業包(bāo)括日本(běn)東(dōng)京應(yīng)化、jsr、住友(yǒu)化學、信(xìn)越化學；韓國東(dōng)進世(shì)美肯；美國(guó)陶氏杜(dù)邦(bāng)，其中(zhōng)日本企業占據約70%市場份額。分産品看，東(dōng)京應(yīng)化在g線/i線和krf光刻膠(jiāo)領(lǐng)域居龍(lóng)頭地位，市(shì)場份額分(fèn)别達到27.5%和(hé)32.7%。jsr在arf光刻膠(jiāo)領域(yù)市占率最高，爲(wèi)25.6%。 根據富士(shì)經濟(jì)預測(cè)，2023年全球arf、krf膠(jiāo)産能有(yǒu)望達到1870、3650噸，市(shì)場規(guī)模近(jìn)49、28億元。日本(běn)光刻(kè)膠龍頭jsr、tok包括光(guāng)刻膠在内的業(yè)務毛(máo)利率約40%，其中光刻(kè)膠(jiāo)原料(liào)成本約占(zhàn)90%。 國(guó)内(nèi)半導體(tǐ)用(yòng)光刻(kè)膠生(shēng)産企業包括上海新陽、南大光(guāng)電、晶瑞股(gǔ)份、北京科(kē)華、恒坤股份。目(mù)前隻有北京科(kē)華、晶瑞股(gǔ)份具備量(liàng)産(chǎn)krf光刻膠(jiāo)能力(lì)，北京(jīng)科(kē)華産(chǎn)品(pǐn)已爲(wèi)中(zhōng)芯(xīn)國際供貨(huò)。上(shàng)海新陽在建的(de)19000噸(dūn)/年arf（幹法）光(guāng)刻膠項目(mù)預計2022年達産(chǎn)。   面(miàn)闆光(guāng)刻膠 光刻(kè)膠是lcd面闆制造(zào)的關(guān)鍵材料，根(gēn)據使用對象的(de)不同，又可分(fèn)爲rgb膠、bm膠、oc膠、ps膠(jiāo)、tft膠等。 面闆(pǎn)光(guāng)刻膠主(zhǔ)要包(bāo)括tft配線用(yòng)光刻膠(jiāo)、lcd/tp襯墊料(liào)光刻膠(jiāo)、彩(cǎi)色光(guāng)刻膠(jiāo)及黑(hēi)色光(guāng)刻膠四(sì)大類别(bié)。其中(zhōng)tft配線用光(guāng)刻膠(jiāo)用于對ito布(bù)線，lcd/tp沉澱料(liào)光刻(kè)膠用于使lcd兩個(gè)玻璃(lí)基闆(pǎn)間的(de)液晶(jīng)材料厚度保持(chí)恒定(dìng)。彩色(sè)光刻膠及(jí)黑(hēi)色光刻膠可(kě)賦予(yǔ)彩色濾光片顯色功(gōng)能。 面闆光(guāng)刻(kè)膠市場需要(yào)構成穩定，彩色(sè)光刻膠需求量(liàng)領先(xiān)，預計(jì)2022年全(quán)球銷(xiāo)售(shòu)量将達22900噸，銷(xiāo)售(shòu)額(é)将達(dá)8.77億美元。 tft面闆用(yòng)光刻(kè)膠、lcd/tp襯(chèn)墊料(liào)光刻(kè)膠(jiāo)、黑(hēi)色光刻膠(jiāo)銷售額2022年(nián)預計分别達到3.21億美元(yuán)、2.51億(yì)美(měi)元(yuán)、1.99億美元。 根(gēn)據智研咨詢測算，2020年全球(qiú)面闆光刻(kè)膠(jiāo)市場規模将(jiāng)達到167億人民币(bì)，增速(sù)維持(chí)在4%左(zuǒ)右。根(gēn)據我們的測算(suàn)，到2025年光刻膠市(shì)場規模将達到(dào)203億人民币(bì)。其中，伴随lcd産業中心(xīn)的轉移，我(wǒ)國lcd光刻(kè)膠(jiāo)市場規模(mó)及國産化(huà)率有(yǒu)望(wàng)逐(zhú)步提(tí)升。   pcb用光刻(kè)膠 pcb光(guāng)刻膠可(kě)根據塗布方式分爲uv固(gù)化油墨和uv噴塗(tú)油墨(mò)。目前國内pcb油墨(mò)供應(yīng)商已逐步實現國産(chǎn)替代，容(róng)大(dà)感光(guāng)、廣信(xìn)材料(liào)等企(qǐ)業已掌(zhǎng)握pcb油墨(mò)關鍵技術(shù)。 國内(nèi)對tft光刻膠和半導體(tǐ)光刻膠仍(réng)在起步探索階段。晶(jīng)瑞(ruì)股份、雅(yǎ)克科技(jì)、永太科技、容(róng)大(dà)感光、欣(xīn)奕華(huá)、中電(diàn)彩虹、飛凱材(cái)料在tft光(guāng)刻膠領(lǐng)域(yù)均有布局(jú)，其(qí)中飛凱(kǎi)材料、北旭(xù)電子(zǐ)規劃(huà)産(chǎn)能(néng)高達(dá)5000噸(dūn)/年(nián)，雅克科技(jì)通過收購lg化學(xué)下屬彩色(sè)光刻膠事業部切入(rù)此市場，在(zài)渠道(dào)和(hé)技(jì)術(shù)方面具(jù)備優勢。 光刻(kè)膠(jiāo)等技(jì)術壁(bì)壘極(jí)高的行業，實現(xiàn)技術層面的突(tū)破是(shì)基礎、其次(cì)，需不斷改(gǎi)進工(gōng)藝，滿(mǎn)足半導體行業快速發展(zhǎn)的需(xū)要。 由于光刻膠等行(háng)業認(rèn)證時(shí)間(jiān)較(jiào)長，客(kè)戶不會輕(qīng)易更換供(gòng)應商(shāng)，因此(cǐ)進入(rù)主流供應(yīng)鏈是極其(qí)必要(yào)的。國(guó)内光刻膠(jiāo)生産商未來有(yǒu)望把握中國半導體行業進口替代(dài)契機，實現(xiàn)快速發展(zhǎn)。   ◆ 資料(liào)來源(yuán)：電(diàn)子材料(liào)圈 ◆ 免責聲(shēng)明：所載内(nèi)容(róng)來源于(yú)互(hù)聯網，微信公(gōng)衆号(hào)等公開(kāi)渠(qú)道，我們對文中觀點持(chí)中立态(tài)度，本文僅供參(cān)考、交流。轉載的(de)稿件版權(quán)歸原作者和機構所(suǒ)有。

發(fā)布時間:

2022-08-15

上(shàng)海(hǎi)新(xīn)陽：與(yǔ)heraeus簽訂(dìng)《合作備忘錄》，推(tuī)進(jìn)半導體(tǐ)光刻膠發(fā)展

　　近日，上(shàng)海新陽半(bàn)導體(tǐ)材料(liào)股份(fèn)有限公(gōng)司發(fā)布(bù)了關于簽(qiān)訂《合(hé)作備(bèi)忘錄》的公(gōng)告，公(gōng)告顯示上(shàng)海新(xīn)陽與 heraeusdeutschland gmbh & co. kg(以下(xià)簡稱(chēng)“heraeus”)簽(qiān)署(shǔ)的《合(hé)作備(bèi)忘錄》系雙(shuāng)方就建立(lì)合作關系而簽署的(de)框架協(xié)議，爲解(jiě)決中(zhōng)國(guó)半導體(tǐ)供應鏈面(miàn)臨的(de)新挑戰(zhàn)，推進半(bàn)導體(tǐ)光刻(kè)膠的(de)發展，雙(shuāng)方将深(shēn)度合作，共(gòng)同努(nǔ)力優(yōu)化創新的(de)光刻膠解決方(fāng)案。   　　圖(tú)片來源：上(shàng)海新陽(yáng)   　　公告稱上海新陽作爲(wèi)國内集成(chéng)電路(lù)制造關(guān)鍵工藝(yì)材料供應商，自(zì)立項進行光刻(kè)膠項目(mù)研發以(yǐ)來，将突破集成(chéng)電路高(gāo)端光刻(kè)膠國(guó)外壟斷，實(shí)現集成電路高(gāo)端光(guāng)刻膠材(cái)料的國産化(huà)作爲發展(zhǎn)目标，在arf幹(gàn)法、krf厚膜及(jí)i線光(guāng)刻膠方面(miàn)已有(yǒu)技術與(yǔ)産(chǎn)品的(de)突破(pò)，部分産品(pǐn)已經拿到(dào)訂單。   　　上海新陽表示，公司(sī)與heraeus簽署本(běn)協議(yì)，旨(zhǐ)在完(wán)善(shàn)光刻膠供應鏈(liàn)，爲光刻(kè)膠(jiāo)項目(mù)的開(kāi)展(zhǎn)提供材(cái)料和技術保障(zhàng)，對加(jiā)快公(gōng)司集(jí)成電路制造用(yòng)光刻膠産(chǎn)品研(yán)發項目進度有(yǒu)積(jī)極影(yǐng)響，有利(lì)于加(jiā)速落實公(gōng)司發展戰略，提高公(gōng)司可持續發展能力。   　　據上(shàng)海(hǎi)新(xīn)陽2021年第三(sān)季度報(bào)告顯示，今年(nián)前三季度(dù)公司實現(xiàn)營業(yè)收入(rù)實現營業收入71,195.83萬元，較上(shàng)年同比增(zēng)長46.31%;實(shí)現歸屬于(yú)上市公司股東的淨(jìng)利潤(rùn)8492.42萬元，較上(shàng)年同比下(xià)降51.99%。   　　在(zài)先前的三(sān)季度(dù)業績(jì)預告(gào)中，上(shàng)海新陽(yáng)表示： 　　年(nián)初至(zhì)報告期末(mò)，公司營(yíng)業(yè)收入(rù)繼續(xù)保(bǎo)持大幅增長(zhǎng)，半導體和塗料業(yè)務(wù)銷售(shòu)收入(rù)均(jun1)實(shí)現了(le)50%左右的(de)增長; 　　由(yóu)于公(gōng)司(sī)開(kāi)展光(guāng)刻膠項目(mù)和參(cān)與國家重(zhòng)大科技項目，研發投(tóu)入持續(xù)加大，研(yán)發費用(yòng)增加明(míng)顯。   　　今年6月(yuè)末，上(shàng)海新(xīn)陽發布公(gōng)告稱(chēng)，公司自主(zhǔ)研(yán)發的krf(248nm)厚(hòu)膜光(guāng)刻膠産品(pǐn)近日已通過(guò)客(kè)戶認(rèn)證，并成(chéng)功(gōng)取得第一(yī)筆(bǐ)訂單。公告稱(chēng)，上海新陽(yáng)開發(fā)的(de)365nm i線、248nm krf、193nm arf幹法(fǎ)及濕法光(guāng)刻膠(jiāo)可适應國内0.35-0.11微(wēi)米、90-28nm芯片工(gōng)藝技(jì)術節(jiē)點的需求(qiú)。   　　11月30日，上海新陽在投資者互動(dòng)平台表示，目前krf光刻膠有(yǒu)持續(xù)訂單(dān)，arf光刻(kè)膠尚(shàng)在認證當中。 　　來(lái)源：勢銀(yín)膜(mó)鏈

發(fā)布時間(jiān):

2021-12-31

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