打(dǎ)破日企壟(lǒng)斷隻是時間問題？東進(jìn)半導體宣布(bù)與三(sān)星成(chéng)功研發EUV光刻膠(jiāo)

　　據韓媒etnews報道，韓國東進半導體與三星電子合作，成功開發了超細半導體加工必不可少的材料——極(jí)紫(zǐ)外(EUV)光(guāng)刻膠(PR)。EUV光刻膠是因其技術難度高(gāo)而完全依賴國外的産品，此次韓國通過國内企業合作實現了國産化(huà)，意味着日企(qǐ)壟斷的打破。

 

東進半導體華城工廠鳥瞰圖，來源：etnews

 

　　12月19日，東進半導體宣布(bù)于近期通過了三星電子的EUV光刻膠可靠(kào)性測試，發布此消息後，截(jié)至12月21日上午11時45分，東進(jìn)半導體股價較前一交易日上漲12.8%。

 

　　一(yī)位熟悉此事的業(yè)内人士表示，“東進(jìn)半導體在其位于京畿道華城的工廠開發了 EUV光刻膠(jiāo)，并在三星電子的華城EUV生産線上對其進行了測試(shì)，并獲得了最終的可(kě)靠性認證。”

 

三星電子， 來源：etnews

　　光刻(kè)膠是(shì)半導體曝光工藝中的關(guān)鍵(jiàn)材料。它被施加在晶片上，當(dāng)用半導體曝光設備(bèi)照射光時，會發生化學反應并(bìng)改變物理特性。通過用顯影劑沖洗掉來繪制微電路，隻留下必要的部(bù)分。

 

　　在韓國，用于KrF和ArF工藝的(de)光刻(kè)膠已大(dà)量生産(chǎn)，但沒有用于可以繪制更精細電路的EUV光刻膠(jiāo)，大部分需(xū)要依賴日本進口。此外在2019年，日本與韓國(guó)爆(bào)發争議之後曾經(jīng)限制三種重(zhòng)要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，爲此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發，東進半導體(tǐ)也是其中之一。

 

　　東進(jìn)半導體利用自有的(de)基礎(chǔ)設施，如(rú)現有的ArF曝光機和比利時半導體研究所I MEC EUV設(shè)備，開始進行EUV光刻膠國産(chǎn)化研發。

 

　　今年早些時(shí)候，其(qí)加強了EUV光刻(kè)膠(jiāo)專家并加速了技術開發。此外，三星電子積極支持EUV測試環境(jìng)，以達到可以在現場使用(yòng)的質量(liàng)水平。

 

　　目前尚不清楚三星電子是否會立即将東進半導體EUV光刻膠投入半導體生産線。正常(cháng)情況下，如果質量合格就會投入量産(chǎn)線。因此，有人預測最早可能在明年上半年供應。三星電子和東進半導體目前都拒絕就本(běn)條新聞表态。三星電子的一位官員表示：“我們無法與(yǔ)合作公司确認測(cè)試是否通過。”

 

　　就該消息(xī)而言，三星與東進半導體研發的(de)EUV光刻膠産品隻是(shì)成功通過了測試，距離量産時間(jiān)還不确定，但這一消(xiāo)息也表明三星已經在EUV光刻膠(jiāo)方面(miàn)取得成功(gōng)，量産将隻是時(shí)間問題。