2021-09-12 10:32
勢銀(trendbank)研究(jiū)統計(jì)分析,2021年國(guó)内半導體(tǐ)光刻膠市(shì)場規(guī)模将(jiāng)達到29億人民币。
國内(nèi)半導體光刻(kè)膠(jiāo)布局及生産企(qǐ)業總計約(yuē)有14家,真正(zhèng)實(shí)現(xiàn)了批(pī)量供應(yīng)的(de)企業(yè)不足(zú)7家(jiā),且主要(yào)集中在紫(zǐ)外負(fù)膠/正膠、i/g線(xiàn)光刻(kè)膠,如:北京(jīng)科華、蘇州瑞紅、濰坊(fāng)星泰克(kè)、艾森半導體、江(jiāng)蘇(sū)漢拓(tuò)等。而高端(duān)的krf光(guāng)刻膠(jiāo)國(guó)産化率不足(zú)1%,能夠實現(xiàn)産品(pǐn)供應(yīng)的有(yǒu):北京科華、福建(jiàn)泓光半導體、江(jiāng)蘇漢(hàn)拓、上海新(xīn)陽等。在(zài)技術附(fù)加值更高的(de)arf光(guāng)刻膠産品(pǐn)上,目(mù)前國内還未能真正實現(xiàn)規模(mó)化量産訂(dìng)單供(gòng)應,就(jiù)數甯波南(nán)大光(guāng)電、博康旗(qí)下漢拓光學以(yǐ)及廣州微納光刻材(cái)料在(zài)arf光刻(kè)膠産品上有(yǒu)實(shí)質性(xìng)的(de)技術突(tū)破。
來源(yuán):勢(shì)銀(trendbank)
窺探中(zhōng)國大陸規(guī)模最大的(de)晶圓(yuán)代工廠(chǎng)中芯國(guó)際各(gè)技術節點(diǎn)營收(shōu)結構,在2020年(nián)年底被美國打(dǎ)壓,四季度45nm以下(xià)制程營收發生(shēng)嚴重壓(yā)縮,但在(zài)今年上半年公(gōng)司整(zhěng)體運營開(kāi)始逐步轉(zhuǎn)好,營收增(zēng)長了(le)33%,28nm/14nm的先進制程占(zhàn)比更(gèng)是顯(xiǎn)著提升,這(zhè)也推動(dòng)了上遊先進(jìn)光刻膠的(de)需求,尤其(qí)是(shì)arf光(guāng)刻膠的國産替(tì)代。
來源(yuán):smic
目前國(guó)内芯片制造企(qǐ)業(yè)消耗(hào)的arf光刻(kè)膠基本是采購(gòu)國外(wài)供應(yīng)商,例(lì)如:jsr、tok、信越化學等。我國本土光刻膠企業在arf光刻(kè)膠産品上(shàng)還是和國(guó)際老牌供(gòng)應商之間(jiān)存在(zài)很大(dà)的光刻性能差距,如(rú):折射(shè)率、光敏度、分辨(biàn)率、線(xiàn)邊緣(yuán)粗糙(cāo)度等等參數。經(jīng)勢銀(trendbank)調研統計,我國正在真正(zhèng)逐步推進(jìn)arf光刻(kè)膠項(xiàng)目且(qiě)有技(jì)術實力(lì)的廠商(shāng)僅有如下6家,推(tuī)測(cè)這幾家(jiā)也将(jiāng)是未(wèi)來2-3年(nián)内逐(zhú)一打入本(běn)土芯(xīn)片制造商供應(yīng)鏈的最(zuì)有(yǒu)利競争者:
甯波南大(dà)光電
公司(sī)是(shì)arf光(guāng)刻膠産品(pǐn)開發與産業化項目(mù)的實(shí)施(shī)主(zhǔ)體單(dān)位,目前arf幹式光(guāng)刻膠已通(tōng)過50nm閃(shǎn)存平台認證和(hé)55nm邏輯電路(lù)平台(tái)認證。公司正在(zài)大力推進arf光刻(kè)膠(arf幹式分辨(biàn)率(lǜ)90-45nm,濕式分辨率65-14nm)産(chǎn)能建設(shè),規(guī)劃年産能達到25噸(幹(gàn)式5噸和浸(jìn)沒式20噸)。
上(shàng)海新陽
公司是krf厚膜膠與(yǔ)arf光刻(kè)膠開(kāi)發與(yǔ)産業(yè)化項目的實(shí)施(shī)主體單位(wèi),已擁有兩(liǎng)台arf光(guāng)刻機(jī),可分别用(yòng)于幹法和(hé)濕法光刻膠(jiāo)開發。目(mù)前krf厚膜膠(分辨(biàn)率≥0.15μm,膜(mó)厚(hòu)0.3-15μm)已通(tōng)過(guò)下遊客戶(hù)驗證,可應(yīng)用于3d存儲(chǔ)器件(jiàn)工(gōng)藝/pad/implant,預計2021年年底會有訂(dìng)單批量供(gòng)應(yīng)出(chū)貨。其arf光刻膠尚處于客(kè)戶認證當中,可應用于先進邏輯(jí)節點的line/contact/hole/trench,按進(jìn)度預計(jì)在2021年年底(dǐ)會取(qǔ)得實(shí)質(zhì)性的突(tū)破進展。
北京科(kē)華
公司是國内(nèi)本土krf光(guāng)刻膠主(zhǔ)力供(gòng)應商(shāng),目前(qián)已經打入(rù)國内(nèi)多家(jiā)芯(xīn)片制造(zào)廠(chǎng)供(gòng)應鏈(如長江存儲、中芯國(guó)際、廣(guǎng)州粵(yuè)芯、華(huá)虹半(bàn)導體),2021年上半年(nián)krf光(guāng)刻膠同比增長94.51%,産(chǎn)品可(kě)應用(yòng)于poly/aa/metal/implant/contact hole等(děng)工藝(yì),其arf光刻膠(jiāo)項目(mù)正在(zài)按(àn)計劃推進。
晶瑞股份
公司是(shì)老牌半導(dǎo)體光刻膠供應(yīng)商之一,現已擁有一(yī)台(tái)arf幹式光(guāng)刻機(jī)。其krf光刻膠(jiāo)樣品正在下遊(yóu)客戶驗證(zhèng),分辨率可達0.15-0.25μm,可應用(yòng)于hole/line/space等層工(gōng)藝,其(qí)arf幹式光刻膠正(zhèng)處(chù)在開發(fā)階段(duàn),分辨率可達90-65nm。
江蘇漢拓
公司是徐州(zhōu)博康集團控股(gǔ)子公(gōng)司,具備徐州博康成(chéng)熟的krf、arf光刻膠(jiāo)單體開(kāi)發技(jì)術背(bèi)景,目(mù)前已開發krf正膠(jiāo)和負膠産(chǎn)品,以負(fù)膠(分辨(biàn)率0.25μm,膜(mó)厚0.6μm)和厚膜(mó)膠(分辨率(lǜ)1μm,膜厚(hòu)3-5μm)爲重點,可應用(yòng)于lift-off工藝(yì)、厚(hòu)鋁刻(kè)蝕、pad工(gōng)藝;arf系列光(guāng)刻膠正在(zài)以(yǐ)與(yǔ)客戶(hù)合(hé)作(zuò)開發(fā)模式推進(jìn),開發的arf光(guāng)刻膠樣品(pǐn)分别達到(dào)了n90、n65、n55的(de)應用需求,已(yǐ)有一款(kuǎn)arf光刻膠産(chǎn)品小(xiǎo)批(pī)量供應(yīng)某存(cún)儲芯片制造(zào)商(shāng),全系列産(chǎn)品還需進一步(bù)在客戶(hù)端(duān)評估驗證。
廣州微納光刻(kè)材(cái)料
公司(sī)專注開發arf光刻(kè)膠,目(mù)前主(zhǔ)要開(kāi)發了90nm和55nm節(jiē)點的arf光刻(kè)膠(jiāo)樣(yàng)品,90nm節(jiē)點的(de)光刻(kè)膠有很好的線(xiàn)寬粗(cū)糙度,55nm節點(diǎn)的(de)高寬比可達3.2:1,同複(fú)旦大學微電子學院(yuàn)鄧(dèng)海教授(shòu)課(kè)題組有深度(dù)合作,其以(yǐ)oem形式(shì)進行代工(gōng)生産,和廣(guǎng)東/嘉興兩(liǎng)家化工生産企(qǐ)業簽訂了(le)代工(gōng)協議。
勢銀(yín)(trendbank)2021年推(tuī)出最(zuì)新年度報(bào)告《2021年光刻膠産業市(shì)場分析報(bào)告》,本市場研究(jiū)報告側重于國(guó)内半導體(tǐ)/顯示(shì)光刻膠(jiāo)市場/供應鏈,報(bào)告(gào)具體(tǐ)目(mù)錄如下:
第1章(zhāng) 光刻(kè)膠概(gài)念及(jí)其行業發(fā)展概(gài)述
1.1 光刻(kè)膠概念(niàn)深度(dù)剖析
1.1.1 光刻膠應用場(chǎng)景分(fèn)析
1.1.2 光(guāng)刻(kè)膠的産(chǎn)品及應用(yòng)屬性(xìng)分析(xī)
1.1.3 先進(jìn)光刻(kè)材料熱點剖析(xī)
1.2 中國光刻膠行(háng)業發(fā)展(zhǎn)現狀
1.2.1 國内光刻膠整體(tǐ)市場及(jí)國(guó)産化(huà)情況
1.2.2 國(guó)内光刻(kè)膠産業鏈(liàn)瓶頸(jǐng)剖析
1.2.3 國内各地(dì)利好政策及項(xiàng)目布局剖析
第(dì)2章 中(zhōng)國光刻膠專用(yòng)化學(xué)品行(háng)業競争環(huán)境分(fèn)析
2.1 全球光刻膠(jiāo)專用化(huà)學(xué)品主要企業格(gé)局現(xiàn)狀(zhuàng)
2.1.1 上遊主(zhǔ)要企(qǐ)業所屬(shǔ)地分布(bù)情況(kuàng)
2.1.2 主(zhǔ)要(yào)企業(yè)化學品經營範(fàn)疇
2.2 國(guó)内光(guāng)刻膠(jiāo)專用化學品市(shì)場分析(xī)
2.3 國(guó)内光(guāng)刻膠專用(yòng)化學品主要企業剖(pōu)析
2.3.1 強(qiáng)力新(xīn)材
2.3.2 聖(shèng)泉集(jí)團
2.3.3 徐州博(bó)康
第3章 中國光(guāng)刻膠行業競争(zhēng)環境分(fèn)析
3.1 國内(nèi)光刻膠企業地域分布深度剖(pōu)析
3.2 國内光刻膠(jiāo)企業(yè)的産品/産能情況統計
3.3 國内光刻(kè)膠(jiāo)市場(chǎng)深(shēn)度剖析
3.3.1 國内(nèi)半導體及顯示(shì)光刻膠市(shì)場格(gé)局分(fèn)析
3.3.2 國内半(bàn)導體(tǐ)及顯(xiǎn)示光(guāng)刻(kè)膠市場(chǎng)規模(mó)分析
3.4 國内光刻(kè)膠産(chǎn)業配(pèi)套檢測設備剖(pōu)析
3.4.1 配(pèi)套檢(jiǎn)測設備資(zī)金投入占比剖析
3.4.2 光刻膠關鍵(jiàn)設備國(guó)産(chǎn)化分(fèn)析
第(dì)4章 全球光(guāng)刻膠行(háng)業(yè)主要(yào)企業發展(zhǎn)情況(kuàng)分析
4.1 國外光刻膠産(chǎn)業主(zhǔ)要企(qǐ)業經營情(qíng)況分析
4.1.1 德(dé)國默克
4.1.2 日(rì)本tok
4.1.3 日本jsr
4.1.4 美國陶(táo)氏化(huà)學
4.2 重點企(qǐ)業發(fā)展(zhǎn)情(qíng)況剖(pōu)析
4.2.1 南(nán)大(dà)光(guāng)電
4.2.2 晶(jīng)瑞股(gǔ)份
4.2.3 彤程新(xīn)材
4.2.4 上海(hǎi)新陽
4.2.5 雅(yǎ)克科技
第(dì)5章 中國光刻膠專利(lì)及光刻技術分析
5.1 國(guó)内主要企業專利申請情(qíng)況剖析
5.2 國内(nèi)光(guāng)刻膠專利深度(dù)剖析
5.2.1 國(guó)内光刻(kè)膠專利(lì)結構分(fèn)析
5.2.2 國(guó)内(nèi)外專利(lì)趨勢對比分(fèn)析(xī)
5.3 先進光刻(kè)技術(shù)路線對比分析
第6章(zhāng) 中國(guó)光刻膠下遊需(xū)求市(shì)場情況分析
6.1 下(xià)遊應用結(jié)構剖(pōu)析
6.2 終(zhōng)端市(shì)場格(gé)局分析
第7章中國光刻膠(jiāo)産業(yè)市場發展(zhǎn)趨勢預測(cè)(2021-2025)
第8章(zhāng)中國(guó)光刻膠産(chǎn)業投資機會(huì)及風險(xiǎn)分析
8.1 産業(yè)投資(zī)機會(huì)
8.2 投資風險(xiǎn)分析(xī)
轉載自:勢(shì)銀膜鏈(liàn)微信公(gōng)衆号(hào)。
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